बातम्या

खाली आम्ही TFT LCD स्क्रीनच्या विविध वैशिष्ट्यांचा तपशीलवार परिचय करून देऊ:

(1) मोठ्या प्रमाणात: 1990 च्या दशकाच्या सुरुवातीस मोठ्या प्रमाणात ग्लास सब्सट्रेट (3000mmx400mm) TFT ची पहिली पिढी, 2000 च्या पहिल्या सहामाहीत ग्लास सब्सट्रेट क्षेत्र 6800mmx880mm पर्यंत वाढले आणि 950mmx1200mm ग्लास सब्सट्रेट देखील कार्यान्वित करण्यात आले. अलीकडे.

(2) उच्च एकत्रीकरण: LCD प्रोजेक्शन 1.3-इंच TFT डिस्प्ले चिपचे रिझोल्यूशन XGA आहे, ज्यामध्ये लाखो पिक्सेल आहेत. ठराव आहे. SXGA (1280x1024) च्या 16.1-इंच TFT अमोर्फस सिलिकॉनची फिल्म जाडी फक्त 50 नॅनोमीटर आहे. टॅबॉन्ग्लास आणि सिस्टेमॉन्ग्लासचे तांत्रिक एकत्रीकरण, उपकरणे आणि पुरवठ्यासाठी तांत्रिक आवश्यकता आणि तांत्रिक अडचण पारंपारिक LSI पेक्षा जास्त आहे.

(३) पूर्ण कार्ये: TFT लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले मूलत: मॅट्रिक्स ॲड्रेस सिलेक्शन सर्किट म्हणून वापरला गेला, ज्यामुळे लिक्विड क्रिस्टल लाइट व्हॉल्व्हची वैशिष्ट्ये सुधारली. उच्च-रिझोल्यूशन डिस्प्लेसाठी, LCD स्क्रीन 0-6 डिस्प्ले V श्रेणीतील व्होल्टेज समायोजित करून आणि लक्ष्य घटक योग्यरित्या नियंत्रित करून उच्च-गुणवत्तेचे, उच्च-रिझोल्यूशन डिस्प्ले प्राप्त करू शकते.

(४) कमी किमतीत: काचेचे सब्सट्रेट्स आणि प्लॅस्टिक सब्सट्रेट्स मोठ्या प्रमाणात सेमीकंडक्टर इंटिग्रेटेड सर्किट्सच्या किमतीची समस्या मूलभूतपणे सोडवतात आणि मोठ्या प्रमाणात सेमीकंडक्टर इंटिग्रेटेड सर्किट्सच्या ऍप्लिकेशनसाठी एक विस्तृत ऍप्लिकेशन स्पेस उघडतात.

(५) प्रक्रिया लवचिकता: थुंकणे, लेझर ॲनिलिंग तंत्रज्ञानाव्यतिरिक्त, CVD (रासायनिक वाष्प जमा करणे) MCVD पारंपारिक फिल्म निर्मिती व्यतिरिक्त अमोर्फस फिल्म, मल्टी-प्रॉडक्ट फिल्म आणि सिंगल-प्रॉडक्ट फिल्म निवडू शकते जसे की आण्विक रासायनिक वाफ जमा करणे. केवळ सिलिकॉन फिल्मच नाही तर इतर गोष्टीही करू शकतात. I-VI आणि tetra-V सेमीकंडक्टर चित्रपट.

सामान्य ऍप्लिकेशन फील्डमध्ये, TFT तंत्रज्ञानावर आधारित LCD लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले स्क्रीन ही माहिती समाजाचा आधारस्तंभ आहे आणि पातळ फिल्म ट्रान्झिस्टरच्या जलद विकासासाठी देखील वापरली जाऊ शकते. (TFT-OLED) फ्लॅट पॅनेल डिस्प्ले.