बातम्या

खाली आपण TFT LCD स्क्रीनच्या विविध वैशिष्ट्यांचा तपशीलवार परिचय करून देऊ:

(१) मोठ्या प्रमाणात: १९९० च्या दशकाच्या सुरुवातीला मोठ्या प्रमाणात काचेच्या सब्सट्रेटची (३००० मिमी x ४०० मिमी) टीएफटीची पहिली पिढी, २००० च्या पहिल्या सहामाहीत काचेच्या सब्सट्रेटचे क्षेत्रफळ ६८०० मिमी x ८८० मिमी पर्यंत वाढले आणि ९५० मिमी x १२०० मिमी काचेच्या सब्सट्रेटला देखील अलीकडेच कार्यान्वित करण्यात आले आहे.

(२) उच्च एकात्मता: एलसीडी प्रोजेक्शन १.३-इंच टीएफटी डिस्प्ले चिपचे रिझोल्यूशन एक्सजीए आहे, ज्यामध्ये लाखो पिक्सेल आहेत. रिझोल्यूशन आहे. एसएक्सजीए (१२८०x१०२४) च्या १६.१-इंच टीएफटी अमोर्फस सिलिकॉनची फिल्म जाडी फक्त ५० नॅनोमीटर आहे. टॅबोंगलास आणि सिस्टमोंगलासचे तांत्रिक एकात्मता, उपकरणे आणि पुरवठ्यासाठी तांत्रिक आवश्यकता आणि तांत्रिक अडचण पारंपारिक एलएसआयपेक्षा जास्त आहे.

(३) पूर्ण कार्ये: TFT लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले मूळतः मॅट्रिक्स अॅड्रेस सिलेक्शन सर्किट म्हणून वापरला जात होता, ज्यामुळे लिक्विड क्रिस्टल लाईट व्हॉल्व्हची वैशिष्ट्ये सुधारली. उच्च-रिझोल्यूशन डिस्प्लेसाठी, LCD स्क्रीन 0-6 डिस्प्ले V श्रेणीमध्ये व्होल्टेज समायोजित करून (त्याचे सामान्य मूल्य 0.2~4V आहे) आणि लक्ष्य घटक योग्यरित्या नियंत्रित करून उच्च-गुणवत्तेचे, उच्च-रिझोल्यूशन डिस्प्ले प्राप्त करू शकते.

(४) कमी खर्च: काचेचे सब्सट्रेट्स आणि प्लास्टिक सब्सट्रेट्स मोठ्या प्रमाणात सेमीकंडक्टर इंटिग्रेटेड सर्किट्सच्या किमतीची समस्या मूलभूतपणे सोडवतात आणि मोठ्या प्रमाणात सेमीकंडक्टर इंटिग्रेटेड सर्किट्सच्या वापरासाठी विस्तृत अनुप्रयोग जागा उघडतात.

(५) प्रक्रिया लवचिकता: स्पटरिंग, लेसर अॅनिलिंग तंत्रज्ञानाव्यतिरिक्त, CVD (रासायनिक वाष्प निक्षेपण) MCVD पारंपारिक फिल्म निर्मिती जसे की आण्विक रासायनिक वाष्प निक्षेपण व्यतिरिक्त आकारहीन फिल्म, मल्टी-प्रॉडक्ट फिल्म आणि सिंगल-प्रॉडक्ट फिल्म निवडू शकते. केवळ सिलिकॉन फिल्मच करू शकत नाही तर इतर गोष्टी देखील करू शकते. I-VI आणि टेट्रा-V सेमीकंडक्टर फिल्म.

सामान्य अनुप्रयोग क्षेत्रात, TFT तंत्रज्ञानावर आधारित LCD लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले स्क्रीन ही माहिती समाजाचा आधारस्तंभ उद्योग आहे आणि पातळ फिल्म ट्रान्झिस्टरच्या जलद विकासासाठी देखील वापरली जाऊ शकते. (TFT-OLED) फ्लॅट पॅनेल डिस्प्ले.